設(shè)備主機(jī)

外形尺寸

1350mm（長）×450mm(寬)×630mm(高)

重量

80KG

整機(jī)調(diào)節(jié)

整機(jī)水平測試/調(diào)節(jié)

電源

電壓

220～240VAC

功率

6000W

頻率

50/60HZ

空間

加熱臺尺寸

99.99%氧化鋁材質(zhì)加熱板,尺寸（長×寬）：49mm×49mm ，45mm×45mm

最大試樣

40mm×40mm

樣品臺調(diào)節(jié)

水平調(diào)節(jié)

攝像系統(tǒng)

最大圖像

5000（H）×4000（V）

最高幀率

200fps（可升級更高幀數(shù)）

傳感器

SONY 1/1.8"

光譜

黑白/彩色

ROI

自定義

顯示線寬

自定義

曝光時間

自定義

電源

5 VDC USB 接口

傳輸

USB3 Vision

顯微鏡頭

焦距

480mm±5mm（變焦調(diào)節(jié)）

倍率

10倍

視角調(diào)節(jié)

傾斜-10~10°精度±0.1°；左右前后±25mm，高度±10mm；整體模塊實(shí)現(xiàn)快速切換移動位置，行程不低于150mm具備鎖止功能

分辨率標(biāo)度

4～14um

采集系統(tǒng)調(diào)節(jié)

俯視/仰視/平視

光源

類型

單波長工業(yè)LED（冷光）

波長

460nm

光場

80mm×80mm

光點(diǎn)

150粒密集式

壽命

50000Hour

高溫系統(tǒng)

高溫爐

硅鉬棒加熱，恒溫區(qū) 120mm（長）

30段智能控溫，最高升溫速率≤10℃/min，控溫精度，1000℃以下，±0.1℃，1000℃以上，±1℃

常壓下 常溫至1100℃，真空下 常溫至1000℃

雙溫控，測試加熱管內(nèi)外溫度

雙冷卻裝置，5-35℃溫控，流量15L/min冷卻系統(tǒng)容量≥11L，制冷量1520W

不低于兩路保護(hù)氣 接入控制系統(tǒng)

同軸雙邊視窗 采用進(jìn)口石英，易拆裝

真空泵

機(jī)械泵（真空度10Pa），分子泵（10^-3Pa）可選配

真空范圍 機(jī)械泵（10⁵~10^-3Pa），分子泵（10⁵~10^-7Pa）

軟件

接觸角范圍

0～180°

分辨率

0.01°

溫控設(shè)置

設(shè)置30段升溫程序，啟停控制

接觸角測量方式

全自動、半自動、手動

分析方式

停滴法（2/3態(tài)）、座滴法、懸滴法

分析方法

靜態(tài)分析、潤濕動態(tài)分析、實(shí)時分析、雙邊分析

測試方法

圓法、橢圓/斜橢圓法、微分圓/微分橢圓法、Young-lapalace、寬高法、切線法、區(qū)間法

表面自由能

測試方法

Zisman、OWRK、WU、WU 2、Fowkes、Antonow、Berthelot、EOS、粘附功、浸濕功、鋪展系數(shù)

數(shù)據(jù)處理

輸出方式

自動生成，可導(dǎo)出/打印EXCEL、Word、譜圖等多種報告格式

加熱管

99.99% 高純度氧化鋁材質(zhì)加熱管及石英管

規(guī)格：長度 1000mm，管外徑 60mm,內(nèi)徑50mm

加熱板

99.99% 高純度氧化鋁材質(zhì)基板

尺寸：49mm×49mm ，45mm×45mm

高速相機(jī)

主用于高幀率測試要求的客戶

多組規(guī)格可選，最高幀率：4500幀/秒

Plasma等離子設(shè)備

用于提高材料表面活性，提升材料表面自由能，降低接觸角角度

可選配：大氣，真空，微波，寬幅等設(shè)備